看好半導體需要逐年擴張，日本半導體(晶片)器材商Canon傳出將蓋新廠、倍增微影器材產能，藉此因應需要提升，且也將研發使用「奈米壓印(Nano-Imprint)」專業的次世代器材。
日經報導4日新聞，Canon將在日本興建半導體器材新工場、增產採用於半導體製作核心製程的微影器材，該座新廠預測2024年內動工、目的2025年春天啟用生產，涵蓋廠房興建費用及生產器材的總投資額預估將過份500億日圓。Canon目前應用宇都宮事業所和阿見事業所等日本內地2座據點生產微影器材，而Canon將在宇都宮事業所內約7萬平方公尺的空曠上、暌違21年來首度興建微影器材新廠。
新聞指出，Canon預估2024年半導體微影器運彩手機版材販售量將年增29%至180臺，近10年來飆增至4倍，而藉由此次蓋新廠、可將Canon整體微影器材產能提高至現行的近2倍，藉此因應需要提升。Canon微影器材環球市佔率(以臺數換算)為3成、僅次於佔有6成運彩 台灣籃球市佔率的荷蘭ASML，而因英特爾、臺積電(2330)等紛飛計畫在美國等地打造半導體新工場，半導體需要有望年年攀升、因此Canon研判有必須擴增產能。業界預估，2030年環球半導體市場規模上看1兆美元。
據新聞，除蓋新廠、倍增微影器材產能外，Canon也世界盃 運彩 賠率將從事使用「奈米壓印」專業的次世代器材的研發，且斟酌進行生產。該次世代器材的研發由Canon主導，鎧俠(Kioxia)、大日本排印(DNP)也介入。
新聞指出，目前要形成數奈米(nm)品級的電路、就必要採用被稱為「EUV(極紫外光)」專業的器材，而當前EUV微影專業由ASML獨佔。只是EUV一臺要價約200億日圓、且極為耗電，而若「奈米壓印」專業適用化的話，和EUV比擬，預估微影製程的製作本錢最高可刪減4成、耗電力預估最高可壓縮9成。
日本半導體製作裝置協會(SEAJ)7月7日公布預計匯報指出，因大型邏輯晶圓代工場、影像體廠保持積極的投資意願，因此將2024年度(2024年4月-2024年3月)日本製晶片器材販售額(指日系企業於日本內地及海外的器材販售額)自前次(2024年1月13日)預估的3兆5,500億日圓上修至4兆283億日圓、將年增170%，年度別販售額將史上首度衝破4兆日圓大關、持續第3年創下古史空前新高記載。
SEAJ表明，邏輯晶圓代工場的積極投資將連續、2024年以後將進一步擴張規模，動員2024年度晶片器材需要預估將不亂發展，因此將2024年度日本製晶片器材販售額自前次預估的3兆7,00台灣運彩足球投注0億日圓上修至4兆2,297億日圓(將年增50%)、2024年度預估將年增50%至4兆4,412億日圓。
